Samsung установит первый прорывной High-NA EUV инструмент в 2024 году

К концу 2024 года Samsung планирует установить свой первый прорывной инструмент High-NA EUV, который обещает стать ключевым элементом для производства полупроводников. Об этом сообщает Tom’sHardware.

Компания собирается установить систему ASML Twinscan EXE:5000 с числовой апертурой 0,55 (NA) в период с четвертого квартала 2024 года по первый квартал 2025 года на территории своего кампуса в Хвасоне. Этот передовой инструмент будет использоваться для исследований и разработки новых технологических процессов.

Планируется, что Samsung сможет внедрить систему High-NA EUV к середине 2025 года, что позволит ей опережать TSMC и SK hynix в гонке за лидерство. Эта технология играет важную роль в развитии производства чипов с наномерами 8 нм, что значительно улучшит текущие системы Low-NA EUV, которые работают с разрешением 13 нм.

Помимо этого, Samsung активно строит экосистему вокруг этой технологии, сотрудничая с Lasertec, JSR, Tokyo Electron и Synopsys для проверки масок, фоторезистов, машин травления и инструментов проектирования соответственно.

Стоимость систем High-NA EUV оценивается в диапазоне от 380 до 400 миллионов долларов.

Раннее ITinfo сообщало, что Microsoft приостановила агрессивную рекламу Windows 11 в Windows 10.