Китай близок к началу производства 8-нм чипов без зарубежного оборудования

Китай готовится к производству 8-нм чипов без использования зарубежного оборудования. Существующие 7-нм чипы, выпускаемые китайской компанией SMIC по заказу Huawei, предположительно, изготавливаются с применением DUV-оборудования производства нидерландской ASML.

Согласно обновленному каталогу доступного китайским производителям отечественного оборудования, скоро у них будет возможность производить 8-нм продукцию без зависимости от иностранных литографических систем.

Ресурс TrendForce делает вывод, что согласно новому каталогу, который подготовлен для продвижения технического оборудования китайского происхождения Министерством промышленности и информационных технологий КНР, соответствующая система позволит выпускать чипы с точностью межслойного совмещения до 8 нм. Это оборудование имеет разрешение не более 65 нм, работает с лазером длиной волны 248 нм и кремниевыми пластинами размером 300 мм. Таким образом, данное оборудование способно создавать 8-нм чипы без использования лазеров с ультрафиолетовым излучением (EUV).

Предполагается, что в разработке такой литографической системы принимали участие китайские фирмы AMEC и SMEE, а также научные институты из КНР. Согласно последним ограничениям Нидерландов на поставки литографического оборудования производства ASML, работающего с DUV-излучением, китайским компаниям открылась возможность производить DUV-сканеры для производства 8-нм продукции. Если цель будет достигнута, то полупроводниковая индустрия в Китае будет менее зависима от США, Нидерландов и Японии в определенных областях производства.

Ранее ITinfo сообщало, что киберпреступники взламывают Windows через CAPTCHA.