Intel ускоряет производство чипов по технологии 14A с помощью литографических сканеров ASML

Компания Intel успешно завершила установку второго литографического сканера ASML с высокой числовой апертурой (High-NA EUV) в Орегоне, приближаясь к массовому производству чипов по технологии 14A. Об этом сообщает издание 3DNews.

Первый этап испытаний оборудования превзошел ожидания компании, и инфраструктура для запуска производства почти готова. Intel приступила к инспекции фотомасок для работы с новым оборудованием, и планирует начать опытное производство уже в ближайшие месяцы. Массовый выпуск чипов по технологии 14A ожидается не ранее 2026 года.

Для успешного освоения массового производства чипов по технологии 14A компании могут потребоваться новые типы фоторезистивных составов, которые появятся в достаточном количестве к 2026-2027 году.

Ранее ITinfo сообщало, что на выставке всероссийского фестиваля «Наука 0+» НИТУ МИСИС представил искусственное ухо с уникальной конструкцией, разработанное в рамках гранта Российского научного фонда. В будущем эту технологию планируют использовать на МКС для создания полых органов.