Intel и AIST создадут в Японии исследовательский центр

Intel и японский Национальный институт передовых промышленных наук и технологий (AIST) объединят усилия для создания в Японии исследовательского центра по разработке передовых технологий производства проводников. 

Как сообщает Nikkei, центр, который будет оснащен технологиями фотолитографии в глубоком ультрафиолете, планируется построить в ближайшие три-пять лет. Производители оборудования и комплектующих смогут использовать его мощности на коммерческой основе. Это будет первый центр такого рода в Японии. 

Оператором центра выступит AIST, действующий под эгидой Министерства экономики, торговли и промышленности Японии. Общий объем инвестиций может достичь нескольких сотен миллионов долларов.

Технологии фотолитографии в глубоком ультрафиолете являются дорогостоящими и принадлежат голландской компании ASML. Стоимость одного набора оборудования превышает $270 миллионов, что делает его недоступным для большинства производителей. 

Создание исследовательского центра в Японии, где производители и поставщики смогут использовать современное и дорогостоящее оборудование на коммерческой основе, должно способствовать развитию отрасли в целом.

Раннее ITinfo сообщало, что ФСТЭК рекомендует госорганам закрыть доступ к своим сайтам для зарубежных поисковых ботов.