Huawei и SiCarrier разработали методику производства 5-нм чипов

Китайские компании Huawei и SiCarrier разработали технологию под названием self-aligned quadrupole patterning (SAQP), которая позволяет производить микрочипы размером 5 нанометров на существующем оборудовании. Технология обрабатывает материал в четыре этапа, что позволяет создавать гораздо более тонкие микросхемы без использования самого современного литографического оборудования.

Такие инновации способны значительно увеличить мощности Китая по производству полупроводников, несмотря на технологические ограничения, наложенные на Китай США и Нидерландами. Важно отметить, что оборудование для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, необходимое для производства таких чипов, в настоящее время производится только голландской компанией ASML, которая также не может поставлять продукцию в Китай из-за вышеупомянутых санкций.

Аналитики Technsights считают, что новый метод действительно может обеспечить Китаю собственное производство 5-нм чипов. Однако они также выражают мнение, что Китай не сможет сделать это без технологии EUV.

Ранее стало известно, что в 2024 году появится новый механизм борьбы с атаками через QR-код. Подробнее об этом читайте в материале IT INFO MEDIA.